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  真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或非金屬以氣相的形式沉積到材料表面,形成一層致密的薄膜。

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  公司擁有電子束蒸發、磁控濺射、LPCVD、PECVD、ALD等一系列鍍膜技術,蒸鍍材料涵蓋金、鉑、鎢、鎳、銀、銅、鋁、錫、鉻、鈦、鉭等全部常用金屬,非晶硅、氧化硅、氮化硅、氧化鋁、氧化鉿等非金屬材料,鍍膜具有均勻性好,膜層致密,均勻性好等特點。

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