概 述 方案配置 應用案例 留言反饋

  公司擁有多種氧化物,氮化物,硅,多晶硅,和鍺各向同性腐蝕、標準金屬腐蝕、非標準絕緣介質,半導體和金屬腐蝕、光刻膠去除和硅片清洗步驟、硅化物腐蝕、塑料和聚合物刻蝕、硅各向異性刻腐蝕,體硅和鍺硅自停止腐蝕、電化學腐蝕和自停止、光助腐蝕和自停止、薄膜自停止腐蝕、犧牲層去除、多孔硅形成。

fsjs1fsjs2